[发明专利]测定方法、管理方法以及光学部件的制造方法在审
| 申请号： | 202011367256.8 | 申请日： | 2020-11-27 |
| 公开（公告）号： | CN112924457A | 公开（公告）日： | 2021-06-08 |
| 发明（设计）人： | 川上武志 | 申请（专利权）人： | 住友化学株式会社 |
| 主分类号： | G01N21/88 | 分类号： | G01N21/88;G01N21/84 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 齐秀凤 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提供适当地管理第1构件层以及第2构件层的层叠体的端部区域所包括的第1构件层的端部与第2构件层的端部之间的距离的技术。一个实施方式涉及的测定方法，是测定包括第1构件层和第2构件层的层叠体的端部区域的方法，上述第1构件层具有第1端部，上述第2构件层具有从上述层叠体中的上述第1构件层以及上述第2构件层的层叠方向观察，与上述第1端部位于相同侧的第2端部，上述端部区域是从上述层叠体中的上述第1端部遍及至上述第2端部的区域，所述方法具备：在上述端部区域照射检查光的照射工序；检测作为由上述端部区域反射的上述检查光的反射光的检测工序；和基于上述反射光的检测结果，计算上述第1端部与上述第2端部之间的距离的计算工序。 | ||
| 搜索关键词： | 测定 方法 管理 以及 光学 部件 制造 | ||
【主权项】：
暂无信息
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