[发明专利]液体材料气化装置在审
申请号: | 202011371176.X | 申请日: | 2020-11-30 |
公开(公告)号: | CN112899651A | 公开(公告)日: | 2021-06-04 |
发明(设计)人: | 长野忠幸;渡边贵央 | 申请(专利权)人: | 株式会社堀场STEC |
主分类号: | C23C16/448 | 分类号: | C23C16/448;H01L21/67 |
代理公司: | 北京信慧永光知识产权代理有限责任公司 11290 | 代理人: | 崔迎宾;李雪春 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明提供一种液体材料气化装置。具备:容器(1),在内部贮存有液体材料(M);加热器(2),对所述容器(1)内的液体材料(M)进行加热;多个液面检测体(3),在所述容器(1)内液面检测点(P)分别以设定高度为基准配置在规定的高度范围内;基准检测体(4),在所述容器(1)内设置在比多个所述液面检测体(3)的规定的高度范围靠上侧的位置;以及液面判定器(5),根据基于所述基准检测体(4)的电阻的变化而设定的阈值以及多个液面检测体(3)的电阻的变化,判定所述设定高度处的液体材料的有无。 | ||
搜索关键词: | 液体 材料 气化 装置 | ||
【主权项】:
暂无信息
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的