[发明专利]一种光学指纹识别结构及其制作方法、显示装置在审
申请号: | 202011373469.1 | 申请日: | 2020-11-30 |
公开(公告)号: | CN112507828A | 公开(公告)日: | 2021-03-16 |
发明(设计)人: | 刘明 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | G06K9/00 | 分类号: | G06K9/00;H01L27/32;H01L21/77 |
代理公司: | 北京正理专利代理有限公司 11257 | 代理人: | 李远思 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本申请实施例公开一种光学指纹识别结构及其制作方法、显示装置。该实施例的光学指纹识别结构包括显示区和感应区,感应区包括第二TFT、PIN光电二极管和电容器,第二TFT包括源极、漏极、有源区、第一金属部以及第二金属部;PIN光电二极管包括N型掺杂区、P型掺杂区、本征区、第三金属部、第四金属部,其中P型掺杂区与源极电连接;电容器包括第五金属部,作为电容器的第一极板,第五金属部在基板上的正投影覆盖第二金属部和第三金属部在基板上的正投影,第二金属部和第三金属部作为电容器的第二极板。该光学指纹识别结构在实现指纹识别功能的同时,将PIN光电二极管横向设置,有效提高该结构的集成度。 | ||
搜索关键词: | 一种 光学 指纹识别 结构 及其 制作方法 显示装置 | ||
【主权项】:
暂无信息
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