[发明专利]用于去除金属硬掩模和蚀刻后残余物的具有Cu/W相容性的水性制剂在审
| 申请号： | 202011374468.9 | 申请日： | 2014-07-31 |
| 公开（公告）号： | CN112442374A | 公开（公告）日： | 2021-03-05 |
| 发明（设计）人： | 陈丽敏;斯蒂芬·里皮;达妮埃拉·怀特;埃马纽尔·I·库珀 | 申请（专利权）人： | 恩特格里斯公司 |
| 主分类号： | C09K13/08 | 分类号： | C09K13/08;B81C1/00 |
| 代理公司： | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人： | 李婷 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及用于去除金属硬掩模和蚀刻后残余物的具有Cu/W相容性的水性制剂。本发明提供可用于从上面具有氮化钛和/或光致抗蚀剂蚀刻残余物材料的微电子器件相对于金属导电材料例如钨和绝缘材料而言选择性去除所述氮化钛和/或光致抗蚀剂蚀刻残余物材料的组合物。所述去除组合物具有低pH，并含有至少一种氧化剂和至少一种蚀刻剂以及用于使金属腐蚀最小化的腐蚀抑制剂和用于保护电介质材料的钝化剂。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 去除 金属 硬掩模 蚀刻 残余物 具有 cu 相容性 水性 制剂 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于恩特格里斯公司，未经恩特格里斯公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202011374468.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种医学影像科ct优化系统
- 下一篇：一种数据存储方法、装置、设备及介质
