[发明专利]掩膜版在审
| 申请号： | 202011380899.6 | 申请日： | 2020-11-30 |
| 公开（公告）号： | CN112575288A | 公开（公告）日： | 2021-03-30 |
| 发明（设计）人： | 孙琳;李露露;王恩霞;李世泰;李慧 | 申请（专利权）人： | 合肥维信诺科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/24 |
| 代理公司： | 北京远智汇知识产权代理有限公司 11659 | 代理人： | 范坤坤 |
| 地址： | 230000 安徽省合*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种掩膜版。该掩膜版包括掩膜版框架和掩膜版本体；掩膜版本体设置于掩膜版框架上；掩膜版本体包括遮挡区，遮挡区在掩膜版框架上的垂直投影包括第一区域和第二区域，第一区域设置于第二区域远离掩膜版框架开窗区的一侧，沿掩膜版框架的厚度方向，掩膜版框架和第二区域的掩膜版本体之间设置有中空结构，中空结构靠近掩膜版框架开窗区的边缘与外界连通。在掩膜版进行清洗时，中空结构为清洗液提供了间隙通道，从而可以减少清洗液的干燥时间。而且可以增加风刀吹入中空结构的吹入量，进一步地减少清洗液的干燥时间，或者可以在相同干燥时间内提高掩膜版的干燥程度，从而可以减少蒸镀腔室真空异常的现象，减小蒸镀设备污染的概率。 | ||
| 搜索关键词： | 掩膜版 | ||
【主权项】：
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