[发明专利]光源装置在审
| 申请号： | 202011384158.5 | 申请日： | 2020-12-01 |
| 公开（公告）号： | CN112993744A | 公开（公告）日： | 2021-06-18 |
| 发明（设计）人： | 木村圭宏;宫田忠明 | 申请（专利权）人： | 日亚化学工业株式会社 |
| 主分类号： | H01S5/023 | 分类号： | H01S5/023;H01S5/026 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 张思宝 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本公开的光源装置包括：第一激光二极管；第二激光二极管；反射器(40)，其具有使来自第一激光二极管的激光的一部分反射并使该激光的一部分透过的第一反射面(45r)、使来自第二激光二极管的激光的一部分反射并使该激光的一部分透过的第二反射面(46r)、使透过了第一反射面的光出射的第一出射面(45s)、使透过了第二反射面的光出射的第二出射面(46s)；光检测器，其具有接收从第一出射面出射的第一光的第一受光元件、接收从第二出射面出射的第二光的第二受光元件。反射器具有对透过了第一反射面的光从第二出射面的出射进行抑制且对透过了第二反射面的光从第一出射面的出射进行抑制的遮光构造。由此，可高精度地监视激光的输出。 | ||
| 搜索关键词： | 光源 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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