[发明专利]成膜方法及成膜装置在审
| 申请号： | 202011385928.8 | 申请日： | 2020-12-01 |
| 公开（公告）号： | CN112981332A | 公开（公告）日： | 2021-06-18 |
| 发明（设计）人： | 竹见崇;阿部可子 | 申请（专利权）人： | 佳能特机株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/58;C23C14/54 |
| 代理公司： | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人： | 刘杨 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供在形成有凸部和凹部的基板表面形成薄膜时能够抑制空隙的产生的成膜方法及成膜装置。该成膜方法是对沿着与第一方向交叉的第二方向交替地形成有在所述第一方向上延伸的凸部和在所述第一方向上延伸的凹部的基板(10)进行成膜的成膜方法，包括：一边在所述第二方向上搬送基板(10)一边形成薄膜的工序；一边使形成有所述薄膜的基板(10)在所述第二方向上搬送，一边向基板(10)照射第一蚀刻用射束而进行蚀刻的第一蚀刻工序；以及一边使被所述第一蚀刻用射束照射了的基板(10)在所述第二方向上搬送，一边从与所述第一蚀刻用射束不同的照射方向向基板(10)照射第二蚀刻用射束而进行蚀刻的第二蚀刻工序。 | ||
| 搜索关键词： | 方法 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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