[发明专利]一种超低密度二氧化钛泡沫的制备方法有效
申请号: | 202011387020.0 | 申请日: | 2020-12-02 |
公开(公告)号: | CN112429769B | 公开(公告)日: | 2022-01-28 |
发明(设计)人: | 牛高;袁磊;徐习斌;杨睿戆;谭秀兰;董云松 | 申请(专利权)人: | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 |
主分类号: | C23C16/01 | 分类号: | C23C16/01;C23C16/40;C23C16/455;C01G23/07;C01G23/047;B22F9/24 |
代理公司: | 北京远大卓悦知识产权代理有限公司 11369 | 代理人: | 贾晓燕 |
地址: | 621000 四*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 本发明公开了一种超低密度二氧化钛泡沫的制备方法,包括:以低密度金属泡沫作为原子层沉积的基底放入原子层沉积设备的反应腔,分别依次以钛源和氧源作为生成二氧化钛的前躯体,开启原子层沉积设备循环沉积,循环沉积完成后,停止加热;待反应腔温度降低至室温后,取出低密度金属泡沫和二氧化钛泡沫复合块体,将其浸泡于稀硝酸中,以去除低密度金属泡沫,得到二氧化钛块体材料;将二氧化钛块体材料冲洗,并用超临界二氧化碳干燥,得到低密度二氧化钛泡沫。此方法制备的低密度二氧化钛泡沫可应用于激光惯性约束聚变、储氢、净化、过滤、催化支架等其相关领域。 | ||
搜索关键词: | 一种 密度 氧化 泡沫 制备 方法 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
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