[发明专利]一种低钳位电压ESD防护结构及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202011389234.1 申请日: 2020-12-05
公开(公告)号: CN112687679A 公开(公告)日: 2021-04-20
发明(设计)人: 蒲石;田泽;谢运祥;郎静;邵刚 申请(专利权)人: 西安翔腾微电子科技有限公司
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02;H01L21/82
代理公司: 西安匠成知识产权代理事务所(普通合伙) 61255 代理人: 商宇科
地址: 710054 陕西省西*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明涉及一种低钳位电压ESD防护结构及其制备方法。本发明包括P型衬底、N型外延层、PWELL区、第一N+接触区、N+齐纳接触区、第一P+接触区和第二N+接触区,P型衬底上方为N型外延层,PWELL区和第二N+接触区位于N型外延层内部上方,第二N+接触区位于PWELL区右方,第一N+接触区、N+齐纳接触区,第一P+接触区位于PWELL区内部上方;N+齐纳接触区包围第一N+接触区,第一P+接触区位于N+齐纳接触区右方。本发明利用NPN晶体管发射区重掺杂引起的高俄歇复合几率,从而大大降低NPN晶体管的放大系数,实现更高的维持特性。
搜索关键词: 一种 低钳位 电压 esd 防护 结构 及其 制备 方法
【主权项】:
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