[发明专利]一种用于废硅片热处理的装置及工艺有效

专利信息
申请号: 202011393360.4 申请日: 2020-12-02
公开(公告)号: CN112520693B 公开(公告)日: 2022-05-17
发明(设计)人: 司静洁;曹江行;邹文珍;尹号;范美强 申请(专利权)人: 中国计量大学
主分类号: C01B3/06 分类号: C01B3/06;C01B3/08
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 310018 浙江省杭*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种用于废硅片热处理的装置及工艺;热处理装置包括装置主体、加热器、盖体和不锈钢冷凝管;装置主体为半封闭的空心圆柱体,空心圆柱体顶端和两侧布满不锈钢冷凝管,不锈钢冷凝管表面覆盖隔热片;空心圆柱体正下方为加热器;空心圆柱体前方设有盖体,盖体两侧设有不锈钢冷凝管,盖体前方设有不锈钢抽气管;使用该装置的热处理工艺是以废硅片为原料,与还原合金片叠片、放入装置、热处理;再混入低沸点金属盐,加热、退火,循环反复,获得硅基制氢材料;该热处理装置结构简单、使用方便,使用该装置制备的硅基制氢材料化学活性高;因此,用于废硅片热处理的装置及工艺在制氢领域具有很好的应用前景。
搜索关键词: 一种 用于 硅片 热处理 装置 工艺
【主权项】:
暂无信息
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