[发明专利]一种用于废硅片热处理的装置及工艺有效
申请号: | 202011393360.4 | 申请日: | 2020-12-02 |
公开(公告)号: | CN112520693B | 公开(公告)日: | 2022-05-17 |
发明(设计)人: | 司静洁;曹江行;邹文珍;尹号;范美强 | 申请(专利权)人: | 中国计量大学 |
主分类号: | C01B3/06 | 分类号: | C01B3/06;C01B3/08 |
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地址: | 310018 浙江省杭*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明公开了一种用于废硅片热处理的装置及工艺;热处理装置包括装置主体、加热器、盖体和不锈钢冷凝管;装置主体为半封闭的空心圆柱体,空心圆柱体顶端和两侧布满不锈钢冷凝管,不锈钢冷凝管表面覆盖隔热片;空心圆柱体正下方为加热器;空心圆柱体前方设有盖体,盖体两侧设有不锈钢冷凝管,盖体前方设有不锈钢抽气管;使用该装置的热处理工艺是以废硅片为原料,与还原合金片叠片、放入装置、热处理;再混入低沸点金属盐,加热、退火,循环反复,获得硅基制氢材料;该热处理装置结构简单、使用方便,使用该装置制备的硅基制氢材料化学活性高;因此,用于废硅片热处理的装置及工艺在制氢领域具有很好的应用前景。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 硅片 热处理 装置 工艺 | ||
【主权项】:
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