[发明专利]基材膜、层叠体和它们的制造方法在审
| 申请号： | 202011396954.0 | 申请日： | 2020-12-03 |
| 公开（公告）号： | CN113031336A | 公开（公告）日： | 2021-06-25 |
| 发明（设计）人： | 祖父江彰二;仲西雄亮 | 申请（专利权）人： | 住友化学株式会社 |
| 主分类号： | G02F1/1335 | 分类号： | G02F1/1335;G02F1/13363;G02F1/1337;C08J7/04;C08L23/02;C08L67/00;C08L1/08;C08L33/02 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 薛海蛟 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明的课题在于，提供可以抑制在基材膜上形成的液晶层中产生的不均的基材膜、层叠体和它们的制造方法。上述基材膜为待涂布包含液晶化合物的涂布液的基材膜。基材膜的待涂布涂布液一侧的表面中的硅元素量的标准偏差为0.04以上且0.09以下。 | ||
| 搜索关键词： | 基材 层叠 它们 制造 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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