[发明专利]长焦抗光幕有效
申请号: | 202011397555.6 | 申请日: | 2020-12-04 |
公开(公告)号: | CN112578624B | 公开(公告)日: | 2022-03-29 |
发明(设计)人: | 李嘉彬;王茂貴;傅世民;徐耀男 | 申请(专利权)人: | 弘胜光电股份有限公司 |
主分类号: | G03B21/60 | 分类号: | G03B21/60 |
代理公司: | 北京世衡知识产权代理事务所(普通合伙) 11686 | 代理人: | 王志翔;肖淑芳 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | 本发明提供了一种长焦抗光幕,包括基材、光学结构层、吸光填补层、扩散填补层及影像反射层,其中光学结构层系设在基材的一面,光学结构层设有复数个光学微结构体,各光学微结构体之间相隔填补间距,而形成填补空间,吸光填补层系填补在部分的填补空间,而扩散填补层再填补在吸光填补层之上,并填满填补空间,影像反射层设在扩散填补层与光学结构层之上,扩散填补层与影像反射层的光学特性相近,藉此利用光学结构层与吸光填补层之间的介接位置发生全反射,让环境光容易被吸光填补层吸收,而扩散填补层可以调整影像反射层的视角,借以达到在抗环境光的前提下,仍具有较佳的对比度。 | ||
搜索关键词: | 长焦抗光幕 | ||
【主权项】:
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