[发明专利]长焦抗光幕有效

专利信息
申请号: 202011397555.6 申请日: 2020-12-04
公开(公告)号: CN112578624B 公开(公告)日: 2022-03-29
发明(设计)人: 李嘉彬;王茂貴;傅世民;徐耀男 申请(专利权)人: 弘胜光电股份有限公司
主分类号: G03B21/60 分类号: G03B21/60
代理公司: 北京世衡知识产权代理事务所(普通合伙) 11686 代理人: 王志翔;肖淑芳
地址: 中国台*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 发明提供了一种长焦抗光幕,包括基材、光学结构层、吸光填补层、扩散填补层及影像反射层,其中光学结构层系设在基材的一面,光学结构层设有复数个光学微结构体,各光学微结构体之间相隔填补间距,而形成填补空间,吸光填补层系填补在部分的填补空间,而扩散填补层再填补在吸光填补层之上,并填满填补空间,影像反射层设在扩散填补层与光学结构层之上,扩散填补层与影像反射层的光学特性相近,藉此利用光学结构层与吸光填补层之间的介接位置发生全反射,让环境光容易被吸光填补层吸收,而扩散填补层可以调整影像反射层的视角,借以达到在抗环境光的前提下,仍具有较佳的对比度。
搜索关键词: 长焦抗光幕
【主权项】:
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