[发明专利]一种漫反射激光冷却装置有效
| 申请号： | 202011405398.9 | 申请日： | 2020-12-03 |
| 公开（公告）号： | CN112768105B | 公开（公告）日： | 2022-08-23 |
| 发明（设计）人： | 王秀梅;张程源;刘硕;陈妍君;周铁中;刘亚轩;王亮;高连山 | 申请（专利权）人： | 北京无线电计量测试研究所 |
| 主分类号： | G21K1/00 | 分类号： | G21K1/00 |
| 代理公司： | 中国航天科工集团公司专利中心 11024 | 代理人： | 张国虹 |
| 地址： | 100854*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开一种漫反射激光冷却装置，涉及漫反射光场的微波腔技术领域，以解决现有漫反射光场的微波腔漫反射光场分布合理化低和利用率低的问题。所述一种漫反射激光冷却装置，其特征在于，包括微波腔体、冷原子团以及镀银层；所述镀银层设置在所述微波腔体的内壁上，所述冷原子团设置在所述微波腔体的中部，所述微波腔体的顶部设置有两个第一冷却光注光孔，所述微波腔体的底部设置有两个第二冷却光注光孔，两个所述第一冷却光注光孔间的连线与两个所述第二冷却光注光孔间的连线垂直。本发明用于提供一种微波腔漫反射光场分布合理化高和利用率高的漫反射激光冷却装置。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 漫反射 激光 冷却 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京无线电计量测试研究所，未经北京无线电计量测试研究所许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202011405398.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
