[发明专利]光学测量参考装置在审
申请号: | 202011408031.2 | 申请日: | 2020-12-04 |
公开(公告)号: | CN112525176A | 公开(公告)日: | 2021-03-19 |
发明(设计)人: | 杜华;董伟超;李智;李洲强 | 申请(专利权)人: | 北京天远三维科技股份有限公司 |
主分类号: | G01C15/02 | 分类号: | G01C15/02 |
代理公司: | 北京开阳星知识产权代理有限公司 11710 | 代理人: | 杨中鹤;麻雪梅 |
地址: | 100192 北京市海淀区*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本公开涉及光学测量技术领域,尤其涉及一种光学测量参考装置。包括至少四个靶标和至少一个主体支撑结构,每个靶标均包括与主体支撑结构连接的固定部、远离主体支撑结构的端头部以及位于固定部与端头部之间的侧端部,侧端部上设有至少一组第一标记点,每组第一标记点的中心均位于同一平面上,同一组的第一标记点的中心所在平面平行于相对应的靶标所在的球体的切平面,主体支撑结构上设有安装部。本公开通过对靶标以及靶标上标记点的位置进行设置,可满足全方位无死角的任意观测角度需求,并将其模块化,从而在保证测量精度和可靠性的同时,有效提升了技术的适用性和效率,并大幅降低了技术门槛和方案成本。 | ||
搜索关键词: | 光学 测量 参考 装置 | ||
【主权项】:
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