[发明专利]光致抗蚀剂图案形成方法在审
| 申请号： | 202011423854.2 | 申请日： | 2020-12-08 |
| 公开（公告）号： | CN112946999A | 公开（公告）日： | 2021-06-11 |
| 发明（设计）人： | 角田力太;柳楠熙;染谷康夫 | 申请（专利权）人： | 东京应化工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004 |
| 代理公司： | 上海立群专利代理事务所(普通合伙) 31291 | 代理人： | 陈亦欧;毛立群 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
一种光致抗蚀剂图案形成方法，包括：(i)在支承体上使用光致抗蚀剂组合物形成光致抗蚀剂膜的工序；(ii)将所述光致抗蚀剂膜曝光的工序；及(iii)将所述曝光后的光致抗蚀剂膜显影而形成光致抗蚀剂图案的工序，其特征在于，所述抗蚀剂组合物含有：对显影液的溶解性因酸的作用而变化的树脂(A)、通过曝光产生酸的产酸剂(B)、可光降解的碱(D1)、溶剂(S)及以下述式(x‑1)表示的化合物(X)，在所述工序(i)中形成的光致抗蚀剂膜中残留的溶剂的量为910ppm以上，式中，R |
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| 搜索关键词： | 光致抗蚀剂 图案 形成 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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