[发明专利]一种低表面粗糙度的柔性透明导电电极制备方法在审
| 申请号： | 202011425496.9 | 申请日： | 2020-12-09 |
| 公开（公告）号： | CN112768116A | 公开（公告）日： | 2021-05-07 |
| 发明（设计）人： | 高进伟;尹钰鑫 | 申请（专利权）人： | 华南师范大学 |
| 主分类号： | H01B5/14 | 分类号： | H01B5/14;H01B13/00;H01L51/44 |
| 代理公司： | 广州知友专利商标代理有限公司 44104 | 代理人： | 宣国华;刘彦 |
| 地址： | 510006 广东省广州市广*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种低表面粗糙度的柔性透明导电电极制备方法，采用龟裂模板法在衬底上沉积金属网络电极，通过电镀在沉积的金属网络电极上形成金属镀层，并进行等离子体处理，再使用c‑PI前驱液浸润；加热保温使c‑PI成膜后，于热水浴中将c‑PI薄膜与衬底剥离以完成无损转移，得到低表面粗糙度的柔性透明导电电极。该方法制备所得的柔性透明导电电极具有高透过率的性能，且表面粗糙度在10nm以内，完全满足钙钛矿太阳能电池等薄膜光电器件的要求。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 表面 粗糙 柔性 透明 导电 电极 制备 方法 | ||
【主权项】：
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