[发明专利]一种基于二次设备光强趋势分析的状态检修方法、系统及存储介质在审
| 申请号： | 202011426359.7 | 申请日： | 2020-12-09 |
| 公开（公告）号： | CN112559967A | 公开（公告）日： | 2021-03-26 |
| 发明（设计）人： | 宋亮亮;杨毅;赵国勇;范栋琛;高磊;崔玉;杜云龙;叶翔;庞福滨;陈实;宋爽;刘志仁;齐贝贝;黄哲忱 | 申请（专利权）人： | 国网江苏省电力有限公司电力科学研究院;南京南瑞继保工程技术有限公司;国家电网有限公司;江苏省电力试验研究院有限公司 |
| 主分类号： | G06F17/18 | 分类号： | G06F17/18;G06Q10/00;G06Q50/06;H02J13/00 |
| 代理公司： | 南京纵横知识产权代理有限公司 32224 | 代理人： | 许婉静 |
| 地址： | 211103 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种基于二次设备光强趋势分析的状态检修方法、系统及存储介质，基于现有的SCADA平台和61850通讯采集二次设备提供的光纤接口发送光强数据，二次设备光强测量数据入历史库，在每个给定时间间隔内分别计算光强的算数平均值和标准差，分别用来评价光模块的老化程度和稳定性；使用最小二乘法对计算得到的所有平均值和标准差分别进行自适应回归分析，得到两个回归方程；检修人员通过SCADA监控后台实时给定光强强度检修阈值和光强标准差检修阈值，获得基于回归方程的建议检修时间。本发明有效地提升了过程层光模块的运行状态预测水平，实现了对检修时间的动态预测，实现检修资源的优化配置和促进检修效率的提高。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 二次 设备 趋势 分析 状态 检修 方法 系统 存储 介质 | ||
【主权项】：
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