[发明专利]一种应用于铁电储存器中使用的铁电薄膜电容在审

专利信息
申请号: 202011431103.5 申请日: 2020-12-09
公开(公告)号: CN112670087A 公开(公告)日: 2021-04-16
发明(设计)人: 段阳;胡芳仁;成宏卜;张伟;张雪花 申请(专利权)人: 南京邮电大学
主分类号: H01G4/33 分类号: H01G4/33;H01L27/11507
代理公司: 广东有知猫知识产权代理有限公司 44681 代理人: 崔新芬
地址: 210023 江苏省南京市*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种应用于铁电储存器中使用的铁电薄膜电容,包括硅基底层、上电极层、铁电薄膜层以及下电极层,所述上电极层、铁电薄膜层以及下电极层依次设置于硅基底层上且在上电极层、下电极层与铁电薄膜层之间分别设置有缓冲层,在所述缓冲层与铁电薄膜层之间设置有隔离层,所述上电极层的上部设置有呈格栅状的金属互联,本发明引入隔离层,改善界面,减少了薄膜中氧空位的聚集程度,铁电薄膜的疲劳及保持性能得到了极大的改善。
搜索关键词: 一种 应用于 储存器 使用 薄膜 电容
【主权项】:
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