[发明专利]一种基于侧面抛磨的光纤pH传感结构及其制备方法在审
| 申请号： | 202011431497.4 | 申请日： | 2020-12-07 |
| 公开（公告）号： | CN112720182A | 公开（公告）日： | 2021-04-30 |
| 发明（设计）人： | 何巍;袁宏伟;祝连庆;张雯;董明利;李红;何彦霖 | 申请（专利权）人： | 北京信息科技大学 |
| 主分类号： | B24B19/22 | 分类号： | B24B19/22;B24B41/06;G01N21/17 |
| 代理公司： | 北京律恒立业知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11416 | 代理人： | 王琦;庞立岩 |
| 地址： | 100085 北京市海淀区清*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种基于侧面抛磨的光纤pH传感结构的制备方法，首先，去掉光纤的涂覆层，此段长度为抛磨区长度，之后将光纤固定在抛磨机上，启动机器利用砂轮对抛磨区进行持续研磨，每隔一小时观测包层的剩余厚度，直至抛磨厚度达到要求。最后，取下光纤对抛磨区进行水凝胶的涂覆。该制备方法简单易操作，成本低，同时，通过该方法制备得到的基于侧面抛磨的光纤pH传感结构与现有技术相比较具有更高的灵敏度和稳定性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 侧面 光纤 ph 传感 结构 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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