[发明专利]一种凹凸结构式拓片的脱酸保护方法有效
| 申请号： | 202011443319.3 | 申请日： | 2020-12-08 |
| 公开（公告）号： | CN112609507B | 公开（公告）日： | 2022-05-17 |
| 发明（设计）人： | 张溪文;陈炳铨;施文正;徐绍艳 | 申请（专利权）人： | 杭州众材科技股份有限公司 |
| 主分类号： | D21H25/18 | 分类号： | D21H25/18;D21H25/04;D21H25/02 |
| 代理公司： | 杭州合信专利代理事务所(普通合伙) 33337 | 代理人： | 沈自军 |
| 地址： | 310063 浙江省杭州*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本申请提供一种凹凸结构式拓片的脱酸保护方法，包括如下步骤：1)使用等离子体气流活化拓片表面，去除拓片表面的惰性层；所述等离子体气流活化是通过空气将反应室中气体等离子放电产生的等离子体带出，产生等离子体气流对拓片进行活化处理；2)将脱酸剂雾化后浸润拓片进行脱酸处理。本方法在不破坏拓片表面凹凸结构和其表面染料、墨迹的前提下完成对拓片的脱酸。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 凹凸 结构式 拓片 脱酸 保护 方法 | ||
【主权项】：
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