[发明专利]一种减少刻蚀液浪费的集成电路晶圆刻蚀用固定装置

摘要

本发明涉及集成电路晶圆加工设备技术领域，且公开了一种减少刻蚀液浪费的集成电路晶圆刻蚀用固定装置，包括固定环，所述固定环的内部开设有限位孔，所述固定环的内壁固定安装有滑动环，所述滑动环的外侧滑动连接有滑套，所述滑套的正面铰接连杆。该减少刻蚀液浪费的集成电路晶圆刻蚀用固定装置，通过凸轮、推杆、压缩弹簧、活塞以及密封块之间的配合使用，实现了刻蚀液的间歇加入，仅对需要刻蚀部分进行加工，在保证晶圆刻蚀的同时，大大减少了刻蚀液的浪费，提高了刻蚀液的使用效率，极大的降低了加工成本，并且无需进行分步加工，在一定程度上提高了刻蚀的工作效率，而且适用不同形状的晶圆进行固定。