[发明专利]铝基材直接化学镀铜的溶液及其应用方法有效
申请号: | 202011450148.7 | 申请日: | 2020-12-09 |
公开(公告)号: | CN112593219B | 公开(公告)日: | 2021-09-28 |
发明(设计)人: | 王江锋;刘可 | 申请(专利权)人: | 昆山成功环保科技有限公司 |
主分类号: | C23C18/40 | 分类号: | C23C18/40;C23C18/18 |
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地址: | 215334 江苏省苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开了一种铝基材直接化学镀铜的溶液及其应用方法,该溶液包括以下质量浓度的组分:铜盐5‑15g/L、亚硫酸盐20‑60g/L、络合剂10‑50g/L、还原剂10‑30g/L、缓冲剂10‑50g/L、缓蚀剂0.05‑0.5g/L、表面活性剂0.05‑0.1g/L和余量的水;将上述组分按照配比均匀混合后,用缓冲剂调节pH至7.0‑8.0后形成镀铜溶液。本发明的铝基材直接化学镀铜的溶液,解决了传统镀铜腐蚀铝的问题,和镀液攻击光刻胶的问题,在晶圆级封装领域,可以完全替代真空镀铜,降低成本,提高生产率。 | ||
搜索关键词: | 基材 直接 化学 镀铜 溶液 及其 应用 方法 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理
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