[发明专利]石墨烯纳米带复合结构及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202011450273.8 申请日: 2020-12-09
公开(公告)号: CN114604865A 公开(公告)日: 2022-06-10
发明(设计)人: 张天夫;张立辉;金元浩;李群庆;范守善 申请(专利权)人: 清华大学;鸿富锦精密工业(深圳)有限公司
主分类号: C01B32/194 分类号: C01B32/194;C01B32/186
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 100084 北京市海淀区清*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 一种石墨烯纳米带复合结构的制备方法,包括以下步骤:提供一衬底,该衬底包括多个间隔设置的凸起;在一生长基底上生长石墨烯膜;将一粘胶层设置在所述石墨烯膜远离生长基底的表面;去除所述生长基底,并利用水或有机溶剂清洗;将所述衬底与所述石墨烯膜、所述粘胶层复合,并干燥,得到一第一复合结构,该第一复合结构包括所述衬底、所述石墨烯膜和所述粘胶层,所述石墨烯膜位于所述粘胶层与所述衬底之间;去除所述粘胶层,得到一第二复合结构,该第二复合结构包括所述衬底和所述石墨烯膜,所述石墨烯膜位于所述衬底上,并且所述石墨烯膜在每一凸起附近形成一褶皱;从所述石墨烯膜远离衬底的表面进行刻蚀,将除褶皱以外的石墨烯膜去除。
搜索关键词: 石墨 纳米 复合 结构 及其 制备 方法
【主权项】:
暂无信息
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