[发明专利]鎓盐化合物、化学增幅抗蚀剂组成物、以及图案形成方法有效
| 申请号： | 202011454985.7 | 申请日： | 2020-12-10 |
| 公开（公告）号： | CN113045465B | 公开（公告）日： | 2023-06-23 |
| 发明（设计）人： | 藤原敬之;及川健一;小林知洋;福岛将大 | 申请（专利权）人： | 信越化学工业株式会社 |
| 主分类号： | C07C381/12 | 分类号： | C07C381/12;C07D333/76;C07D335/12;C07D327/08;C07D339/08;C07D279/20;C07C25/18;C07C39/367;C07C69/708;C07C43/225;C07D347/00;C07D333/46;C07D335/02 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
本发明涉及鎓盐化合物、化学增幅抗蚀剂组成物、以及图案形成方法。本发明的课题是提供在以KrF准分子激光、ArF准分子激光、电子束、极紫外线等高能量射线作为光源的光学光刻中，为高感度，且CDU、LWR等光刻性能优异的化学增幅抗蚀剂组成物；并提供其所使用的酸扩散抑制剂、及使用该化学增幅抗蚀剂组成物的图案形成方法。该课题的解决手段为下式(1)表示的鎓盐化合物、由该鎓盐化合物构成的酸扩散抑制剂、及含有该酸扩散抑制剂的化学增幅抗蚀剂组成物。 |
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| 搜索关键词： | 盐化 化学 增幅 抗蚀剂 组成 以及 图案 形成 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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