[发明专利]一种孔隙分布均匀的氮硫掺杂介孔碳电极材料的制法和应用有效

专利信息
申请号: 202011456224.5 申请日: 2020-12-11
公开(公告)号: CN112599362B 公开(公告)日: 2022-08-09
发明(设计)人: 夏新良 申请(专利权)人: 邯郸市华源炭素有限公司
主分类号: H01G11/34 分类号: H01G11/34;H01G11/86;H01G11/24;H01G11/26
代理公司: 广州天河万研知识产权代理事务所(普通合伙) 44418 代理人: 陈轩;刘茂龙
地址: 056799 河*** 国省代码: 河北;13
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摘要: 发明涉及超级电容器碳电极技术领域,且公开了一种孔隙分布均匀的氮硫掺杂介孔碳电极材料,以聚丙烯腈的氰基作为氮源,聚丙烯腈链端的接枝的巯基作为硫源,得到氮、硫共掺杂介孔碳,氮掺杂形成丰富的吡咯氮、吡啶氮和石墨氮,而吡咯氮和吡啶氮可以提供丰富的赝电容效应,从而提高介孔碳电极材料的实际比电容,而石墨氮可以提供碳基体的导电性能,加速电极反应中电荷的传输和迁移,而硫掺杂形成丰富的噻吩硫和氧化态硫结构,可以改善介孔碳基体的电化学活性位点和催化活性,使氮硫共掺杂介孔碳电极材料具有良好的双层电容、赝电容效应、表现出更高的实际比电容。
搜索关键词: 一种 孔隙 分布 均匀 掺杂 介孔碳 电极 材料 制法 应用
【主权项】:
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