[发明专利]可植入的柔性微电极阵列及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202011459423.1 申请日: 2020-12-11
公开(公告)号: CN112546434A 公开(公告)日: 2021-03-26
发明(设计)人: 吴天准;王昊;艾姆蒂·伊史拉特·伊·埃拉嘿;曾齐 申请(专利权)人: 深圳先进技术研究院
主分类号: A61N1/05 分类号: A61N1/05;A61N1/36
代理公司: 深圳市铭粤知识产权代理有限公司 44304 代理人: 孙伟峰;黄进
地址: 518055 广东省深圳*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明提供了一种可植入的柔性微电极阵列,其包括:柔性聚合物衬底,所述柔性聚合物衬底上设置有用于容纳电极的位点凹坑;设置于所述位点凹坑中电极,所述电极包括第一金属层和第二金属层;覆设于所述柔性聚合物衬底上的光滑注液多孔表面层;其中,所述光滑注液多孔表面层包括:形成在所述第二金属层表面的第一纳米锥结构、形成在所述柔性聚合物衬底表面的第二纳米锥结构以及注入到所述第一纳米锥结构和所述第二纳米锥结构的孔隙中的润滑剂。本发明还提供了一种如上所述的柔性微电极阵列的制备方法。本发明的柔性微电极阵列降低了植入电极对胶质细胞的吸附能力,通过减少星形细胞和小胶质细胞在植入电极上粘附来提高植入电极的稳定性。
搜索关键词: 植入 柔性 微电极 阵列 及其 制备 方法
【主权项】:
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