[发明专利]一种基于铁磁材料的真空灭弧室纵磁触头有效
申请号: | 202011464756.3 | 申请日: | 2020-12-14 |
公开(公告)号: | CN112614738B | 公开(公告)日: | 2021-11-09 |
发明(设计)人: | 袁召;何俊磊;潘垣;陈立学 | 申请(专利权)人: | 华中科技大学 |
主分类号: | H01H33/664 | 分类号: | H01H33/664 |
代理公司: | 武汉华之喻知识产权代理有限公司 42267 | 代理人: | 廖盈春;曹葆青 |
地址: | 430074 湖北*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本发明公开了一种基于铁磁材料的真空灭弧室纵磁触头,包括触头片、触头托、触头杯、支撑架、铁磁柱和导电杆;触头片和触头托上均匀开有沿径向的槽,其中一半为大槽,一半为小槽;触头杯上的开槽沿杯壁旋转90°形成杯指;支撑架固定在杯腔中心,主要起支撑作用;圆柱形的铁磁材料固定在支撑架和触头杯内壁之间,分布在靠近触头杯槽口处,其下端面通过杯腔底部的均匀分布的圆柱槽定位,上端面与触头托的下表面接触。该触头结构能改善真空灭弧室杯状纵磁触头的磁场分布,开距较小时触头边缘纵向磁场强度大于中心区域,开距较大时纵向磁场分布相对均匀,电流过零后剩余磁场较小,具有开断能力强、强度高、结构简单等优点。 | ||
搜索关键词: | 一种 基于 材料 真空 灭弧室纵磁触头 | ||
【主权项】:
暂无信息
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