[发明专利]一种低氟高纯五氧化二钽光学镀膜材料制备方法

摘要

本发明公开了一种低氟高纯五氧化二钽光学镀膜材料制备方法，具体涉及钽金属氧化物制备技术领域，包括以下步骤，首先将金属钽溶入氢氟酸和硝酸混酸中，然后萃取提纯后，得到高纯钽液，将高纯钽液通入中和沉淀槽中，同时向高纯钽液中加入液氨，在出现氢氧化钽沉淀后，将含有氢氧化钽沉淀的溶液通入压滤机中，同时加入含氨热纯水，然后得到氢氧化钽，然后多次重复将氢氧化钽加入过滤过程。本发明通过采用电子束对五氧化二钽进行加热处理，不用使用较高的温度即可达到加热煅烧目的，晶粒分布均匀，晶系结构更加理想，同时采用多次使用含氨热纯水辅助过滤过程，保证对氢氧化钽溶液中氟的去除效果更加理想充分，大大降低产品中的含氟量。