[发明专利]一种互连结构及其制造方法

摘要

一种互连结构及其制造方法，包括提供一含有互连线层结构的衬底，在衬底上形成层叠层，层叠层从下到上依次包括刻蚀阻挡层、介质层、材料层和介质层；对层叠层进行光刻刻蚀形成通孔层；在形成通孔层的通孔过程中或者形成通孔之后，通过干法刻蚀或者湿法药液浸润，在通孔侧壁的材料层处横向刻蚀，以形成N个锯齿状结构；在通孔层的通孔和锯齿结构中同步生长金属材料，金属材料填满通孔层的通孔；沉积金属层，以在通孔层形成覆盖层；对塞覆盖层进行平坦化工艺，以形成平坦化的通孔层。因此，本发明通过在通孔侧壁形成锯齿状结构，增加CMP过程中研磨液的下渗路径，解决了钴缺失的问题，且工艺简单。