[发明专利]等离子物理气相沉积用陶瓷粉末的制备方法在审
| 申请号： | 202011479674.6 | 申请日： | 2020-12-15 |
| 公开（公告）号： | CN112537959A | 公开（公告）日： | 2021-03-23 |
| 发明（设计）人： | 王世林;吕延庆;肖飞;岳鑫;赵洪俭;张福林;薛健 | 申请（专利权）人： | 辽宁省轻工科学研究院有限公司 |
| 主分类号： | C04B35/48 | 分类号： | C04B35/48;C04B35/626 |
| 代理公司： | 沈阳维特专利商标事务所(普通合伙) 21229 | 代理人： | 甄玉荃 |
| 地址： | 110142 辽*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种等离子物理气相沉积用陶瓷粉末的制备方法，为了满足PS‑PVD工艺中粉末材料的多孔要求，在配料中加入了造孔剂，且雾化造粒后设置了排烧步骤，将粉料中的造孔剂去除，在粉料颗粒自身强度没有受到影响的基础上，实现了对于粉末颗粒的多孔要求，同时，该制备方法通过采用溢流分级与气流分级相结合的方式，实现对粉料粒度的精确控制，以满足PS‑PVD的工艺要求，最终获得粒径小、结构多孔、流动性良好粉末材料；该制备方法，具有简单、易操作，适于应用推广等优点。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子 物理 沉积 陶瓷 粉末 制备 方法 | ||
【主权项】：
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