[发明专利]一种负离子光学幕布及其制备工艺在审

专利信息
申请号: 202011480611.2 申请日: 2020-12-16
公开(公告)号: CN112596333A 公开(公告)日: 2021-04-02
发明(设计)人: 肖晓宇;黄奇 申请(专利权)人: 深圳市光科数字科技有限公司
主分类号: G03B21/60 分类号: G03B21/60;G03B21/56;C09D167/00;C09D7/40
代理公司: 无锡风创知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 32461 代理人: 单虎
地址: 518000 广东省深圳市福田区福保街道*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明涉及聚乳酸树脂技术领域,具体地说,涉及一种负离子光学幕布及其制备工艺。其包括PVC基底层和位于PVC基底层上方的微棱镜层、反射层、保护层和功能涂层,所述功能涂层包括以下原料组成:聚酯树脂、功能剂、流平剂、消泡剂,该负离子光学幕布及其制备工艺中,通过加入负离子至涂层中,制成的光学幕布在使用时,对空气净化、城市小气候等方面有调节作用,有效提升现有居住及生活环境中负氧离子数量,有益于身体健康,聚酯树脂它一般由多元醇和多元酸酯化而成,用于光学幕布使用,可提升幕布的柔韧性,玻璃纤维步应用于光学幕布上,优点是绝缘性好、耐热性强、抗腐蚀性好,机械强度高,加强了幕布的强度,延长幕布的使用寿命。
搜索关键词: 一种 负离子 光学 幕布 及其 制备 工艺
【主权项】:
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