[发明专利]一种氟硅酸法生产无水HF精制的FTrPSA深度脱水除杂的分离与净化方法有效

专利信息
申请号: 202011484304.1 申请日: 2020-12-16
公开(公告)号: CN112744788B 公开(公告)日: 2022-09-23
发明(设计)人: 钟雨明;钟娅玲;汪兰海;陈运;唐金财;蔡跃明;蒋强 申请(专利权)人: 四川天采科技有限责任公司
主分类号: B01D53/047 分类号: B01D53/047;C01B7/19;B01D3/14;B01D53/14
代理公司: 成都弘毅天承知识产权代理有限公司 51230 代理人: 轩勇丽
地址: 610041 四川省成都市中国(四川)自由贸*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明公开了一种氟硅酸法生产无水HF精制的FTrPSA深度脱水除杂的分离与净化方法,涉及氟硅酸法生产无水氟化氢(AHF)精制过程中脱水与除杂的分离与净化方法,利用氟硅酸法制备AHF过程中反应产生的反应气及其经过洗涤与冷凝后得到的不凝气体中各组分(HF为有效组分,H2O、H2SO4、SO2、SiF4、NH3、CO2为主要杂质组分)本身在不同压力与温度下的吸附/冷凝/精馏分离系数及物理化学性质的差异性,采取以两段中温变压吸附工序为主与冷凝及HF精馏耦合,使得中温变压吸附过程中吸附与解吸易于匹配和平衡的循环操作来进行分离与净化,从而实现HF的深度脱水与除杂。实现AHF产品的含水量小于100ppm的技术要求,AHF产品可用于半导体领域,填补了技术空白。
搜索关键词: 一种 硅酸 生产 无水 hf 精制 ftrpsa 深度 脱水 分离 净化 方法
【主权项】:
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