[发明专利]多孔质结构体,多孔质结构体的制造方法以及制造装置有效
申请号: | 202011492488.6 | 申请日: | 2020-12-17 |
公开(公告)号: | CN113024878B | 公开(公告)日: | 2023-10-03 |
发明(设计)人: | 鹰式启吾;后河内透;大木本美玖;杉原直树;野势大辅 | 申请(专利权)人: | 株式会社理光 |
主分类号: | C08J9/28 | 分类号: | C08J9/28;C08L35/02;H01M50/414;H01M50/489;H01M50/491;H01M4/131;H01M4/133;H01M4/134;H01M4/136;H01M10/0525 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 兰恭滨 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明涉及多孔质结构体,绝缘层,电极,蓄电元件,多孔质结构体的制造方法,多孔质结构体的制造装置,载置体,分离层,以及反应层。将至少两个多孔质结构体叠层使其一体化场合,存在接合界面易产生剥离等的强度降低的课题。另外,存在接合界面空隙的连通性降低的课题。本发明涉及具有连通的空孔的多孔质结构体,多孔质结构体包括由树脂A形成的多孔质结构部A和由树脂B形成的多孔质结构部B,多孔质结构部A和多孔质结构部B连续地一体化,树脂A和树脂B构成成分不同。 | ||
搜索关键词: | 多孔 结构 制造 方法 以及 装置 | ||
【主权项】:
暂无信息
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