[发明专利]前驱体制备系统以及制备方法在审

专利信息
申请号: 202011495588.4 申请日: 2020-12-17
公开(公告)号: CN112742325A 公开(公告)日: 2021-05-04
发明(设计)人: 张朋立;宋顺林;刘亚飞;陈彦彬 申请(专利权)人: 北京当升材料科技股份有限公司;当升科技(常州)新材料有限公司
主分类号: B01J19/18 分类号: B01J19/18;B01J4/00;H01M4/505;H01M4/525;H01M10/0525
代理公司: 北京润平知识产权代理有限公司 11283 代理人: 林治辰;李健
地址: 100160 北京市丰台区*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种前驱体制备系统以及制备方法,前驱体制备系统包括第一反应釜、第二反应釜、输送机构以及控制机构;输送机构配置为能够在制备前驱体的整个过程中持续地将第一釜体中的小颗粒晶核输送至第二釜体中;第一反应釜的第一反应腔室中的pH值大于第二反应釜第二反应腔室中的pH值;第一进料组件向第一反应腔室提供浆料的流量为a,第二进料组件向第二反应腔室提供浆料的流量为b,输送机构输送小颗粒晶核的流量为c,流量a为流量b的0.01~0.3倍,流量c等于流量a。本发明的前驱体制备系统能够使反应过程中的pH值保持稳定,确保所有粒径颗粒的球形度均较好,且前驱体的粒径更易控制,适合大规模生产。
搜索关键词: 前驱 体制 系统 以及 制备 方法
【主权项】:
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