[发明专利]一种用于无掩模光刻的投影成像系统有效
| 申请号： | 202011496782.4 | 申请日： | 2020-12-17 |
| 公开（公告）号： | CN112526833B | 公开（公告）日： | 2022-09-27 |
| 发明（设计）人： | 刘鹏 | 申请（专利权）人： | 张家港中贺自动化科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 苏州国诚专利代理有限公司 32293 | 代理人： | 陈松 |
| 地址： | 215614 江苏省苏州*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供了一种用于无掩模光刻的投影成像系统，其具有成像效果好、畸变小、宽光谱、成本低的优点，沿着光轴由物面至像面依次包括：第一镜组，光阑，第二镜组，第三镜组，所述第一镜组至少包括1个负透镜和2个正透镜，所述第二镜组包括至少1个负透镜和1个正透镜，所述第三镜组包括至少1个正透镜。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 无掩模 光刻 投影 成像 系统 | ||
【主权项】：
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