[发明专利]一种高结晶度半导体膜转移制造方法有效

专利信息
申请号: 202011510746.9 申请日: 2020-12-19
公开(公告)号: CN112687799B 公开(公告)日: 2022-10-11
发明(设计)人: 朱国栋;陈秋松;刘蔚林 申请(专利权)人: 复旦大学
主分类号: H01L51/40 分类号: H01L51/40;H01L51/05;H01L21/34;H01L21/683
代理公司: 上海正旦专利代理有限公司 31200 代理人: 陆飞;陆尤
地址: 200433 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明属于半导体器件制造技术领域,具体一种高结晶度半导体膜转移制造方法。本发明方法利用具有粘度调节特性的热剥离胶带,将在诱导结晶模板上制备的半导体薄膜转移到目标衬底上,实现半导体内高度结晶区域与载流子传输区域的重合,并控制半导体膜分子链的取向排列,优化载流子传输效率,以便获得高电性能的半导体器件,从而实现高电学性能半导体器件的可靠制造。
搜索关键词: 一种 结晶度 半导体 转移 制造 方法
【主权项】:
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