[发明专利]集成电路封装件及其形成方法在审
申请号: | 202011516793.4 | 申请日: | 2020-12-21 |
公开(公告)号: | CN113013153A | 公开(公告)日: | 2021-06-22 |
发明(设计)人: | 郑心圃;陈硕懋;许峯诚 | 申请(专利权)人: | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
主分类号: | H01L25/16 | 分类号: | H01L25/16;H01L23/498;H01L23/538;H01L21/50 |
代理公司: | 北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409 | 代理人: | 章社杲;李伟 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 台湾;71 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明的实施例公开了一种集成电路封装件及其形成方法。该方法包括:将第一封装件组件和第二封装件组件接合到中介层。所述第一封装件组件包括核心器件管芯,所述第二封装件组件包括存储器管芯。独立无源器件(IPD)管芯直接接合到中介层。IPD管芯通过中介层中的第一导电路径电连接到第一封装件组件。封装件衬底接合到中介层管芯。封装件衬底位于中介层的与第一封装件组件和第二封装件组件相反的一侧上。 | ||
搜索关键词: | 集成电路 封装 及其 形成 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于台湾积体电路制造股份有限公司,未经台湾积体电路制造股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202011516793.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类