[发明专利]含双鎓盐结构的光致产酸剂、制备方法及光刻胶组合物有效
申请号: | 202011526905.4 | 申请日: | 2020-12-22 |
公开(公告)号: | CN112592303B | 公开(公告)日: | 2023-04-28 |
发明(设计)人: | 齐国强;顾大公;毛智彪;许从应;余绍山;许东升 | 申请(专利权)人: | 宁波南大光电材料有限公司 |
主分类号: | C07C321/30 | 分类号: | C07C321/30;C07C319/20;C07C303/32;C07C309/04;C07C309/30;G03F7/004 |
代理公司: | 深圳盛德大业知识产权代理事务所(普通合伙) 44333 | 代理人: | 贾振勇 |
地址: | 315800 浙江省*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: |
本发明公开了一种含双鎓盐结构的光致产酸剂,其结构通式如下(I)所示: |
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搜索关键词: | 含双鎓盐 结构 光致产酸剂 制备 方法 光刻 组合 | ||
【主权项】:
暂无信息
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