[发明专利]半水基型半导体元器件清洗剂在审
| 申请号： | 202011527728.1 | 申请日： | 2020-12-22 |
| 公开（公告）号： | CN112500938A | 公开（公告）日： | 2021-03-16 |
| 发明（设计）人： | 陈成勋;种光耀;黄继承 | 申请（专利权）人： | 苏州柏越纳米科技有限公司 |
| 主分类号： | C11D1/72 | 分类号： | C11D1/72;C11D1/825;C11D3/20;C11D3/26;C11D3/37;C11D3/60 |
| 代理公司： | 南京苏科专利代理有限责任公司 32102 | 代理人： | 蒋慧妮 |
| 地址： | 215000 江苏省苏州市工业*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明揭示了一种半水基型半导体元器件清洗剂，所述清洗剂的pH值为6.8‑7.4，其组分（质量百分比）为，30~80%四氢糠醇，0.2~1%非离子表面活性剂，0.1~0.5%缓蚀剂，余量为去离子水，本发明的有益效果为：能够有效去除多种半导体电子器件上的焊锡膏、助焊剂、锡膏残留，对于倒装芯片、PCBA也有显著的清洗效果。适用于超声波清洗和喷淋清洗及浸泡清洗等多种清洗工艺，超声波适用精细的物件清洗，能得到非常理想的效果；喷淋清洗工艺则适用于大批量清洗PCBA。清洗后的表面离子残留物少、可靠性高，不含固体物质，被清洗件和清洗设备上无残留，无发白现象。 | ||
| 搜索关键词： | 半水基型 半导体 元器件 洗剂 | ||
【主权项】：
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