[发明专利]应用于真空腔室中的电连接件、静电卡盘和半导体设备有效

专利信息
申请号: 202011529112.8 申请日: 2020-12-22
公开(公告)号: CN112736522B 公开(公告)日: 2022-03-22
发明(设计)人: 史全宇 申请(专利权)人: 北京北方华创微电子装备有限公司
主分类号: H01R13/02 分类号: H01R13/02;H01R13/24;H01R24/00;H01J37/32;H01L21/683
代理公司: 北京思创毕升专利事务所 11218 代理人: 孙向民;廉莉莉
地址: 100176 北京市大*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了应用于真空腔室中的电连接件、静电卡盘和半导体设备,其中,真空腔室中设有相对的第一接线柱和第二接线柱,电连接件设置于第一接线柱和第二接线柱之间,该电连接件包括:第一导电部,与第一接线柱相对设置,能够接触或远离第一接线柱;第二导电部,与第二接线柱接触连接;位于第一导电部和第二导电部之间的可伸缩导电结构,可伸缩导电结构、第一导电部和第二导电部形成密封空腔;可伸缩导电结构,用于在大气环境下处于压缩状态,且第一导电部远离第一接线柱;在真空环境下能够伸长,且第一导电部与第一接线柱接触。本发明的电连接件,在大气环境下,电连接件处于压缩状态,电路断开,在真空环境下电连接件能够伸长,实现电路导通。
搜索关键词: 应用于 空腔 中的 连接 静电 卡盘 半导体设备
【主权项】:
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