[发明专利]硅片处理设备在审
| 申请号： | 202011536953.1 | 申请日： | 2020-12-23 |
| 公开（公告）号： | CN112616232A | 公开（公告）日： | 2021-04-06 |
| 发明（设计）人： | 张少飞 | 申请（专利权）人： | 西安奕斯伟硅片技术有限公司;西安奕斯伟材料技术有限公司 |
| 主分类号： | H05F3/04 | 分类号： | H05F3/04;H05F3/06;B08B9/093 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 许静;张博 |
| 地址： | 710065 陕西省西安市*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种硅片处理设备，包括硅片处理装置，所述硅片处理装置包括一具有容纳腔体的柜体，所述柜体的第一侧壁上设置有入口，所述入口处设置有片盒上载台，还包括离子风机和排风结构；所述离子风机设置于所述柜体的顶部，用于在片盒进入所述柜体之前对片盒提供离子风以消除片盒静电，并去除片盒上的污染物；所述排风结构包括与真空设备连接的排风管道，所述排风管道设置于所述第一侧壁上，且所述排风管道的进口位于所述离子风机与所述柜体的入口之间，用于吸取并排出由离子风吹起的污染物。 | ||
| 搜索关键词： | 硅片 处理 设备 | ||
【主权项】：
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