[发明专利]一种纳米级Sn-Beta的合成方法有效
| 申请号： | 202011537646.5 | 申请日： | 2020-12-23 |
| 公开（公告）号： | CN112551538B | 公开（公告）日： | 2023-03-28 |
| 发明（设计）人： | 王于;于浩淼;王贤彬;王炳春;李进 | 申请（专利权）人： | 中触媒新材料股份有限公司 |
| 主分类号： | C01B37/06 | 分类号： | C01B37/06;C01B39/04;C01B39/06;B01J29/70;B01J35/02;B82Y30/00;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙) 11350 | 代理人： | 李兴林 |
| 地址： | 116308 辽宁*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： |
本发明提供了一种纳米级Sn‑Beta的合成方法，主要包括以下步骤：将易溶于醇类的硅源与水解剂混合均匀，再将水与有机模板剂一同加入，将所得到的溶胶在水浴锅中搅拌，加入Beta晶种和含F |
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| 搜索关键词： | 一种 纳米 sn beta 合成 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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