[发明专利]EBCMOS分辨力参数的测量装置在审
| 申请号： | 202011544510.7 | 申请日： | 2020-12-24 |
| 公开（公告）号： | CN112763189A | 公开（公告）日： | 2021-05-07 |
| 发明（设计）人： | 赵卫;李永贤;朱香平;韦永林 | 申请（专利权）人： | 松山湖材料实验室 |
| 主分类号： | G01M11/02 | 分类号： | G01M11/02 |
| 代理公司： | 深圳市千纳专利代理有限公司 44218 | 代理人： | 何耀煌 |
| 地址： | 523000 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种EBCMOS分辨力参数的测量装置，其包括光学平台、光源系统、分辨力靶、物镜、测量暗箱、气体置换装置、TEC温控系统和图像采集及分析系统。本发明的结构设计巧妙、合理，能实现光源照度可变以及被测器件工作温度可变，利用TEC温控台单独只对被测器件控温实现快速变温提高测试效率，而且设有气体置换装置，能快速排出测量暗箱内空气从而降低水汽含量，有效解决了降温情况潜在的水汽冷凝、结霜影响测试结果问题，实现对EBCMOS器件分辨力进行准确而且完整性评价测试，精确反映出EBCMOS器件分辨力在全工作温度范围内的真实水平，保障器件各种应用场景下可靠工作，有利于指导研发生产工作。 | ||
| 搜索关键词： | ebcmos 分辨力 参数 测量 装置 | ||
【主权项】：
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