[发明专利]自适应漏射补偿DMLC强度序列化方法、系统、装置及存储介质在审

专利信息
申请号: 202011547717.X 申请日: 2020-12-24
公开(公告)号: CN112657070A 公开(公告)日: 2021-04-16
发明(设计)人: 吴章文;勾成俊;侯氢 申请(专利权)人: 四川大学
主分类号: A61N5/10 分类号: A61N5/10;G16H20/40
代理公司: 成都知都云专利代理事务所(普通合伙) 51306 代理人: 陈钱
地址: 610000 四*** 国省代码: 四川;51
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 本方面实施例公开了一种自适应漏射补偿DMLC强度序列化方法。所述自适应漏射补偿DMLC强度序列化方法包括如下步骤:设置N个不同角度的射野并对其进行优化,得出优化结果;根据所述优化结果获取给定的第i射野的注量率分布其中,x方向为MLC叶片运动方向,y方向与x方向垂直,形成笛卡尔坐标系;对给定的第y个叶片的注量率分布进行离散化,得到所述第i照射野的MLC漏射自适应后的子野分布序列。通过本发明实施例的自适应漏射补偿DMLC强度序列化方法可以得到所述第i照射野的MLC漏射自适应后的子野分布序列,用该序列进行的照射的剂量分布能最大程度地与优化的结果相符合。
搜索关键词: 自适应 补偿 dmlc 强度 序列 方法 系统 装置 存储 介质
【主权项】:
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