[发明专利]一种高温化学气相沉积系统及设备

摘要

本发明适用于半导体设备制造技术领域，提供了一种高温化学气相沉积系统及设备，包括绝缘加热桶和固定设置在其底部的底箱，所述绝缘加热桶内壁设置有发热件，所述发热件能够产生2000℃以上的发热温度；所述底箱内转动设置有贯穿所述绝缘加热桶底部的伸缩装置，所述底箱内还设置有驱动所述伸缩装置转动的旋转装置以及与所述绝缘加热桶连通的通风组件，所述通风组件可产生气流并可通入到所述绝缘加热桶内；本发明通过发热件对绝缘加热桶内部进行快速加热，便于内部反应更加高效，增强了系统的绝缘性，防止热辐射对外界造成伤害，反应完毕后可对绝缘加热桶进行快速降温，使化学气相沉积加热系统更加完善。