[发明专利]一种掩膜板和掩膜板制作方法在审
| 申请号： | 202011548822.5 | 申请日： | 2020-12-24 |
| 公开（公告）号： | CN112662995A | 公开（公告）日： | 2021-04-16 |
| 发明（设计）人： | 毕娜;白珊珊;刘月 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/24;B23P15/00 |
| 代理公司： | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人： | 姚楠 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种掩膜板和掩膜板制作方法，以改善现有技术在通过掩膜板形成发光基板的图案时，存在蒸镀位置不准确，容易产生混色的问题。所述掩膜板，用于采用光罩多分割曝光工序形成的母板进行遮挡，所述母板具有因多分割曝光工序形成无法曝光的基板无效区，其中，所述掩膜板包括：金属框架；支撑掩膜板，所述支撑掩膜板位于所述金属框架的一侧；至少一个精细金属掩膜条，所述精细金属掩膜条位于所述支撑掩膜板背离所述金属框架的一侧，具有多个用于对所述母板中子像素蒸镀发光薄膜的开口；支撑板，所述支撑板位于所述金属框架与所述精细金属掩膜板之间，用于对所述基板无效区进行遮挡，所述支撑板的厚度大于所述支撑掩膜板的厚度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 掩膜板 制作方法 | ||
【主权项】：
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