[发明专利]一种三维微透镜阵列的制备方法在审
| 申请号： | 202011553217.7 | 申请日： | 2020-12-24 |
| 公开（公告）号： | CN112630872A | 公开（公告）日： | 2021-04-09 |
| 发明（设计）人： | 许剑锋;唐家璇;孙权权;沈丽峰;兰洁;陈肖;焦威 | 申请（专利权）人： | 华中科技大学 |
| 主分类号： | G02B3/00 | 分类号： | G02B3/00;G03F7/00 |
| 代理公司： | 华中科技大学专利中心 42201 | 代理人： | 孔娜;李智 |
| 地址： | 430074 湖北*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明属于三维微透镜阵列制造相关技术领域，其公开了一种三维微透镜阵列的制备方法，该方法包括：对金属基板进行加工得到三维微透镜阵列的模具；在制备三维微透镜阵列的材料表面制备预设厚度的压印胶，并采用模具对压印胶进行压制固化得到压印胶材质的三维微透镜阵列；采用干法刻蚀对压印胶材质的三维微透镜阵列进行刻蚀直至在制备三维微透镜阵列的材料上得到完整的三维微透镜阵列。本申请首先制备出与待制备的三维微透镜阵列相匹配的模具，然后利用该模具压制出与三维微透镜阵列形状相同的模型，最后对该模型进行干法刻蚀即可获得三维微透镜阵列，操作简单，所用设备简单易得，并且可以批量化制备，非常适用于工业化应用。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 三维 透镜 阵列 制备 方法 | ||
【主权项】：
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