[发明专利]一种纳米链结构阵列的制备方法及应用在审
| 申请号： | 202011553992.2 | 申请日： | 2020-12-24 |
| 公开（公告）号： | CN112795870A | 公开（公告）日： | 2021-05-14 |
| 发明（设计）人： | 朱圣清;向萌;许郅博;周春鹤 | 申请（专利权）人： | 江苏理工学院 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/35;C23C14/24;C23C14/58;G01N21/65 |
| 代理公司： | 常州佰业腾飞专利代理事务所(普通合伙) 32231 | 代理人： | 王巍巍 |
| 地址： | 213001 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种纳米链结构阵列的制备方法及应用，包括如下步骤：(1)在基底表面采用湿法刻蚀获得具有条状镂空结构阵列的光刻胶层；(2)在带有该光刻胶层的基底上进行沉积得到金纳米薄膜，然后剥离该光刻胶层，在基底表面得到条状镂空金纳米阵列；(3)进行退火处理，最后在基底上制得以金纳米颗粒为基本单元构成的纳米链结构阵列，纳米链之间相互平行且间距为200nm～1000nm，每条所述纳米链的基本单元为金纳米颗粒，每个所述金纳米颗粒之间的间距为2nm～10nm。本发明方法生产成本低并适于大规模生产，本发明的纳米链结构阵列应用于表面增强拉曼散射基底，能够提高表面等离子激元效应，提高局域场增强效应。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 纳米 链结 阵列 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
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