[发明专利]一种激光器外延结构及其制作方法、VCSEL芯片在审
申请号: | 202011557123.7 | 申请日: | 2020-12-25 |
公开(公告)号: | CN112615257A | 公开(公告)日: | 2021-04-06 |
发明(设计)人: | 林志伟;陈凯轩;童吉楚;谢昆江;徐枫 | 申请(专利权)人: | 厦门乾照激光芯片科技有限公司 |
主分类号: | H01S5/183 | 分类号: | H01S5/183 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 361000 福建省厦门市厦门*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | 本发明提供了一种激光器外延结构及其制作方法、VCSEL芯片,其中激光器外延结构包括:依次堆叠的衬底、缓冲层、N型DBR层、有源区、氧化层、P型DBR层及P型欧姆接触层;所述N型DBR层和P型DBR层分别包括若干组交替生长的低折射率物质层和高折射率物质层,且所述低折射率物质层和所述高折射率物质层界面之间形成隧穿结,可以提高激光器内量子效应,有效提升激光器的性能。 | ||
搜索关键词: | 一种 激光器 外延 结构 及其 制作方法 vcsel 芯片 | ||
【主权项】:
暂无信息
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