[发明专利]一种痕量硼掺杂的羟基氧化钴的制备方法及其应用有效
| 申请号： | 202011559895.4 | 申请日： | 2020-12-25 |
| 公开（公告）号： | CN112844386B | 公开（公告）日： | 2021-12-24 |
| 发明（设计）人： | 邓林;施周;曾寒轩 | 申请（专利权）人： | 湖南大学 |
| 主分类号： | B01J23/75 | 分类号： | B01J23/75;C02F1/72;C02F101/30;C02F103/34 |
| 代理公司： | 长沙正奇专利事务所有限责任公司 43113 | 代理人： | 马强;胡凌云 |
| 地址： | 410083 湖*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种痕量硼掺杂的羟基氧化钴的制备方法及其应用，将所述钴铝水滑石粉末分散于水中，获得悬浊液A；将硼氢化物、强碱和水混合均匀，获得混合液；再将所述悬浊液A和所述混合液混合，搅拌至完全反应，获得悬浊液B；对所述悬浊液B依次进行过滤、洗涤、干燥，获得痕量硼掺杂的羟基氧化钴（B‑CoOOH）。与采用常规方法——沉淀法制备的CoOOH相比，B‑CoOOH具有在催化降解磺胺甲恶唑的应用中具有更强的催化效率，更稳定的物理化学结构，重金属Co的溶出量极低，可保证在实际应用时不会对水体造成二次污染，安全环保。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 痕量 掺杂 羟基 氧化钴 制备 方法 及其 应用 | ||
【主权项】：
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